ASML拒绝美要求禁止对华出售光刻机 光刻机是干什么用的？光刻机市场分析

• 2022年10月31日 GuoMeng来源：互联网 934 58
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荷兰光刻机生产企业阿斯麦(ASML)周三向投资者保证，美国限制中国获取尖端半导体技术的最新出口管制措施，对该公司的影响“相当有限”。ASML的言论让市场感到出乎意料，一直以来，受美国政府对华贸易打压影响，芯片设备行业蒙受损失，但ASML认为，公司未来销售额会高于

ASML拒绝美要求禁止对华出售光刻机

据彭博社20日报道，荷兰光刻机生产企业阿斯麦(ASML)周三向投资者保证，美国限制中国获取尖端半导体技术的最新出口管制措施，对该公司的影响“相当有限”。ASML的言论让市场感到出乎意料，一直以来，受美国政府对华贸易打压影响，芯片设备行业蒙受损失，但ASML认为，公司未来销售额会高于市场预期。

ASML当地时间19日公布的财报显示，今年三季度该公司净销售额为57.7亿欧元，净收入17亿欧元，超过分析师预测的54.1亿欧元销售额和14.2亿欧元利润。该公司称，由于对先进芯片制造机器的强劲需求，第四季度的销售额可能会高于分析师的预期。

光刻机是干什么用的

光刻机又被称为掩模对准曝光机，是制造芯片的核心装备。其工作原理类似于照片冲印，需要将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。截止目前，世界上最先进的光刻机无疑是荷兰ASML公司所生产的了。

光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。

目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

经过多年的努力追赶，中国光刻机产业链在一些领域已经实现了突破，初步打破国外巨头完全垄断的局面，让中国光刻机产业链拥有了追赶国际的基础能力。

光刻机为什么中国做不出来

光刻机不是说中国做不出来，只是说做出5纳米精度目前是做不了，因为很多方面技术方面受到了限制，像很多符合要求的光刻机零件是无法自主制造出来。

1、光刻机的镜头技术要求很高，我国当前的技术水平不足以研制出精度足够的镜头，只能选择从国外进口。

2、有一部分零件无法机器生产，因为它们对精度的要求相当高，必须由很多工程师耗费大量的时间去手工打磨。这使得我国的光刻机研制备受阻滞。

光刻机市场分析

光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。而光刻技术则是制造集成电路的关键技术，是通过紫外光、准分子激光、电子束等广义光源和与其敏感的光刻胶之间的相互作用在基板上形成微纳结构图形的技术。

据中研普华研究报告《2022-2027年光刻机产业深度调研及未来发展现状趋势预测报告》分析

目前，世界光刻机行业的集中度非常高，前三大企业占据了90%以上的市场。中国光刻机一直是制约中国半导体器件生产的最大障碍。中国的光刻机，短期内是无法跟上国际的。

从政策上来说，半导体行业需要大量的资金，而光刻机又不是一蹴而就的，所以政府必须要确保政策和资金的持续性。除了政府的资助之外，社会资本对于半导体行业整体趋势的了解也会更加深刻。通过政府的资金支持，引导社会资金进入半导体行业，将更多的技术投入到半导体行业中来，从而促进整个行业的发展。

从产业链来看，光刻机上游产业链主要包括测量台与曝光台(双工件台)、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等11个模块的组件。上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。光刻机行业的下游主要是圆晶代工企业，下游主要决定了光刻机市场的需求。

我国在光刻机的相关政策中，对于光刻机的未来发展十分看重，在进出口、人才培养等方面给予扶持，未来光刻机发展不可估量。

欲了解更多市场具体详情可以点击查看中研普华研究报告《2022-2027年光刻机产业深度调研及未来发展现状趋势预测报告》。

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