光刻机产业深度调研 国产光刻机市场现状如何？

• 2022年9月30日 HuangWenYu来源：百度百科 LaserFocusWorld 国家统计局 WSTS 688 40
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光刻机(lithography)又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的概念

光刻机(lithography)又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在3 千万至5亿美元。

根据中研普华产业研究院发布的《2022-2027年光刻机产业深度调研及未来发展现状趋势预测报告》显示：

中国的光刻机产业链发展得如此缓慢，在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现，因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用，毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业。直到近几年，国产光刻机得到重视。

光刻机行业市场现状分析

随着半导体和信息通讯等产业稳步扩张，全球光刻机销量呈现稳步增长态势，2021年top3企业销量达478台，同比2020年增长65台。整体来看，集成电路、面板和LED光刻机整体出货约650台，其中集成电路约500台左右。

光刻机市场由三个品牌垄断，ASML、尼康(Nikon)、佳能(Canon)市场占有率超过90%，是典型的寡头垄断市场，而ASML更是垄断最高端的极紫外(EUV)光刻机市场。从全球光刻机市场份额来看，2020年ASML、Nikon和Canon分别占据全球光刻机市场84%、7%、5%，合计市场份额约96%。

从政策环境上来看，我国对于光刻机行业较为重视。其主要表现在对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持。

EUV作为唯一能够制备7nm及以下工艺的光刻机，采用EUV光源，使用的光波波长只有13.5nm， NA (数值孔径)为0.33， 目前全球只有ASML能生产EUV光刻机。

2020年中国集成电路累计产量达到了2614.2亿块，同比增长29.53%。2021年中国集成电路累计产量达到了3594亿块，同比增长37.48%。中国已成为全球规模最大、增速最快的集成电路市场。

光刻机的下游市场，数据显示，2021年全球半导体市场规模达5559，同比2020年增长26.2%。中国集成电路销售额超万亿元，达10458.3亿元，同比2020年增长18.2%。

国产产业链在光刻机方面的进展，让中国正成为全球最具潜力的光刻机生产国，这方面是ASML所在的荷兰和尼康所在的日本都无法达到的，产业链已成为中国光刻机的核心竞争优势。

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