光刻设备行业竞争现状：呈寡头垄断格局

一、光刻设备行业简介

光刻设备是半导体制造中的核心设备，其技术门槛和资金门槛都非常高，被誉为集成电路产业皇冠上的明珠。光刻设备的主要功能是将设计好的集成电路图形通过光线的曝光印制到硅衬底的光感材料上，实现图形的转移。这一过程在芯片生产中需要重复多次，决定了半导体线路纳米级的加工精度，对功率以及光源的要求十分复杂，对光刻机的技术要求十分苛刻，对误差和稳定性的要求极高。因此，光刻机的分辨率、精度成为其性能的评价指数，直接影响到芯片的工艺精度以及芯片的功耗、性能水平。

二、光刻设备行业产业链分析

光刻设备的产业链包括上游的零件、组件和设备等，以及下游的应用如芯片制造、功率器件制造、芯片封装等。光刻机涉及的内部零件种类众多，且越高端的光刻机组成越复杂，其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等。因此，光刻机企业往往具备高外采率、与供应商共同研发的特点。

三、全球光刻设备行业发展现状

光刻机市场呈寡头垄断格局，由国外企业主导，ASML、Nikon、Canon占绝大多数市场份额。全球光刻机市场由国外企业主导，主要竞争公司为荷兰ASML、日本Nikon和Canon，其中ASML占绝对霸主地位，ASML市场份额占比82.1%，Canon占比10.2%，Nikon占比7.7%。

ASML垄断高端光刻机市场，Nikon紧随其后，Canon在中低阶市场中占比较高。ASML拥有绝对优势，2022年共计出货345台；Canon紧随其后，出货量达176台；Nikon相对数量较少，仅出货30台。在超高端光刻机EUV领域中ASML独占鳌头，高端光刻机ArFi和ArF领域也主要由ASML占领；Canon主要集中在i-Iine领域；Nikon除EUV外均有涉及。
图表：2021-2023年全球光刻设备行业市场规模

四、全球重点厂商分析

ASML是全球最领先的光刻机行业龙头企业，市场份额占比高达82.1%。自1984年成立以来，ASML一直帮助芯片制造商将技术推向新的极限并释放社会潜力，其硬件、软件和服务共同提供了一种大规模生产微芯片图案的整体方法，目前已成长为全球最领先的光刻机龙头。

ASML拥有全面、丰富的光刻机产品线，并提供翻新产品业务。ASML拥有极紫外（EUV）和深紫外（DUV）两大类光刻系统，其中DUV包括浸入式系统（NXTi平台）和干式系统（NXT和XT平台），并提供翻新产品业务对旧光刻系统进行翻新、升级，目前提供翻新的有PAS5500和第一代AT、XT和NXT系统。

浸入式系统行业领先，EUV技术为其独有。ASLM的浸入式系统在生产力、成像和覆盖性能方面处于行业领先，适用于最先进逻辑和内存芯片的大批量生产，最新的NXT机器已显示出每天运行超过6，000个晶圆的能力，在12个月内平均提高5%的生产力。EUV机使用波长仅为13.5nm的光打印微芯片，该技术为ASML独有，EXE系统是最新一代EUV光刻技术，其新型光学元件的数值孔径（NA）为0.55，分辨率仅8nm。得益于NXE和DUV浸入式系统销量增加，ASML营业收入持续增长。2019-2023年，ASML的营业收入持续增长，由118.2亿欧元增长至275.59亿欧元，年复合增长率为23.57%；2023年营业收入同比增长30.16%。这主要是因为NXE和DUV浸入式系统的销量增加，供应赶上需求，其中DUV销量从2022年的305台增至2023年396台。

NXE和DUX量价齐升，AMSL净利润快速增长。由于NXE和DUV浸入式销售量的增加及盈利能力的提高，2019-2023年ASML净利润稳定增长，由25.92亿欧元增长至2023年的78.39亿欧元；年复合增长率为31.87%。2023年净利润相较于2022年同比增长39.38%。ASML研发投入不断加码，牢牢占据高端光刻机市场。2023年ASML研发投入为39.81亿欧元，同比增长22.35%，主要包括研发成本31.13亿欧元、资本化支出9.45亿欧元，且其研发费用占净销售额的11.3%。主要用于开发NXE：3800E系统，并进一步提高EUV安装基础系统的可用性与生产力；投资下一代EUV0.55NA（高数值孔径）系统，以支持Logic和DRAM客户的未来节点；引进浸入式系统NXT：1980Fi和干式系统XT：400M；下一代扫描仪持续开发，包括NXT：2150i和NXT：870B。

《2024-2029年光刻机行业市场深度分析及发展规划咨询综合研究报告》由中研普华产业研究院撰写，本报告对该行业的供需状况、发展现状、行业发展变化等进行了分析，重点分析了行业的发展现状、如何面对行业的发展挑战、行业的发展建议、行业竞争力，以及行业的投资分析和趋势预测等等。报告还综合了行业的整体发展动态，对行业在产品方面提供了参考建议和具体解决办法。