光刻胶行业现状 光刻胶行业发展前景展望

• 2022年3月30日 ZhouJiaLiang来源：互联网 1202 78
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目前全球半导体材料市场之中最重要的供应国就是日本，在半导体材料领域之中，日本拥有绝对垄断的地位，并且日本企业在全球半导体材料占据市场份额超过50%以上。而在这种光刻胶市场之中，更是处于一家独大的局面。

在芯片的制造过程之中，光刻机是非常重要的，光刻机的精度将会直接决定最后芯片的性能好坏。目前全球半导体材料市场之中最重要的供应国就是日本，在半导体材料领域之中，日本拥有绝对垄断的地位，并且日本企业在全球半导体材料占据市场份额超过50%以上。而在这种光刻胶市场之中，更是处于一家独大的局面。

光刻胶行业现状

光刻胶是半导体制造的核心材料，行业壁垒高：光刻胶是半导体制造工艺中光刻技术的核心材料，其品质直接决定集成电路的性能和良率，也是驱动摩尔定律得以实现的关键材料。光刻胶按照应用领域可以分为PCB、面板、半导体用光刻胶三大类，其中半导体光刻胶技术门槛最高，专利技术、原材料、设备验证、客户认证使得行业壁垒高筑。国内产业链下游企业逐渐意识到核心材料国产化的重要性，国内厂商也在积极研发中高端产品、加速客户和产品导入、扩建相关产能，在探索中砥砺前行，从而抓住国产化的契机。目前已有少数企业已开始崭露头角，实现从0到1的突破。

光刻胶技术壁垒较高，全球市场较为集中，其中日本合成橡胶(JSR)、日本信越化学、东京应化(TOK)、美国杜邦等日美企业占据全球光刻胶市场的主导地位。日本光刻胶技术处于国际领先水平，特别是在高端EUV光刻胶市场，几乎处于垄断市场。目前我国低端光刻胶基本实现了国产替代，但高端光刻胶进口依赖度仍较高，尤其是EUV光刻胶。

随着中国本土半导体晶圆代工的产能增速迅猛，中国半导体光刻胶市场在2015年约为17.8亿元，2020年已经增长至约27.4亿元，2021年或可实现31亿元市场规模。经过多年研发，中国厂商目前已经实现了除EUV光刻胶外的突破，代表公司有彤程新材、上海新阳、徐州博康、晶瑞股份等。此外，南大光电自主研发的ArF光刻胶通过了客户验证，在客户选择的50nm闪存产品中对控制栅进行了验证，结果显示为满足工艺要求，良率达标。

从全球市场来看，2021年行业CR6约为88%，市场集中度高。东京应化、JSR、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占据27%、13%、12%、8%的市场份额，陶氏化学占据17%的市场份额，韩国东进占据11%的市场份额。

据中研产业研究院报告《2022版光刻胶项目可行性专项研究及投资价值咨询报告》分析

光刻胶是集成电路领域微加工的关键性材料，为推动光刻胶等半导体材料行业的发展，近年来，我国政府发布了多项利好政策支持光刻胶产业发展，同时国内企业也积极研发中高端产品，主动寻求光刻胶及其核心材料国产化。现阶段，我国光刻胶企业有晶瑞电材、彤程新材、华懋科技、南大光电等，在国产替代大契机下，国内光刻胶企业将迎来发展良机。

光刻胶行业发展前景展望

伴随全球半导体产业东移，加上我国持续增长的下游需求和政策支持力度。同时，国内晶圆厂进入投产高峰期，由于半导体光刻胶与下游晶圆厂具有伴生性特点，国内光刻胶厂商将直接受益于晶圆厂制造产能的大幅扩张。当前我国高端光刻胶与全球先进水平有近40年的差距，半导体国产化的大趋势下，国内企业有望逐步突破与国内集成电路制造工艺相匹配的光刻胶，所以必须要对光刻胶足够的重视，不断向日本和欧美等发达国家学习，努力开发出性能优异的国产光刻胶，使我国在未来的市场中占据一席之地。

想要了解更多光刻胶行业的发展前景，请查阅《2022版光刻胶项目可行性专项研究及投资价值咨询报告》。

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