刻蚀机尤其是介质刻蚀机,是我国最具优势 的半导体设备领域,也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。目前我国主流设备中,去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。随着闪存技术突破,存储市场拉动刻蚀设备需求明显增大,预测20
刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器。光刻机相当于画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,腐蚀和去除不需要的部分)。
按照刻蚀工艺划分,刻蚀主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀,利用等离子体与表面薄膜反应,形成挥发性物质,或者直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。
湿法刻蚀工艺主要是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀,该刻蚀方法会导致材料的横向纵向同时腐蚀,会导致一定的线宽损失。干法刻蚀在半导体刻蚀中占据绝对主流地位,市场占比约 90%。
刻蚀机产业链中,上游为刻蚀机的四大组成部分,主要包括预真空室、刻蚀腔体、供气系统及真空系统;中游为刻蚀机的制造,刻蚀技术主要有两种,传统湿法刻蚀技术及现代干法刻蚀技术;下游为刻蚀机的应用,主要用来制造半导体器件、太阳能电池及其他微机械制造。
根据中研普华产业研究院发布的《2021-2026年中国刻蚀机市场深度全景调研及投资前景分析报告》显示:
半导体刻蚀设备市场主要由美日厂商主导。半导体刻蚀设备领域长期由海外龙头垄断,根据统计,全球刻蚀企业前三大分别是泛林半导体(Lam Research)、东京电子(TEL)、应 用材料(AMAT),全球市占率合计 91%,其中泛林半导体以45%的市场份额遥遥领先,东京电子和应用材料则分别占据 28%和 18%的市场份额。
而国内的刻蚀设备企业主要有中微公司、北方华创、屹唐半导体和中电科。其中,中微公司、北方华创和屹唐半导体均以生产干法刻蚀设备为主,中电科除了生产干法刻蚀设备以外还生产湿法刻蚀设备。除上述企业外,国内还有创世微纳、芯源微和华林科纳等企业生产刻蚀设备。
数据显示,在芯片制造的所有设备中,光刻机的成本占比约为24%,而刻蚀机的占比约为20%,这两种设备合计占比为44%。从国内市场来看,刻蚀机尤其是介质刻蚀机,是我国最具优势 的半导体设备领域,也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。目前我国主流设备中,去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。
随着闪存技术突破,存储市场拉动刻蚀设备需求明显增大,预测2025年全球刻蚀设备市场空间达到155亿美元,市场空间增量主要来自于存储制造对刻蚀设备的需求激增。
本报告帮助刻蚀机行业企业、科研单位、销售企业、投资企业准确了解行业当前最新发展动向,及早发现行业市场的空白点,机会点,增长点和盈利点……前瞻性的把握行业未被满足的市场需求和趋势,形成企业良好的可持续发展优势。
了解更多行业数据详情,可以点击查阅中研普华产业研究院的《2021-2026年中国刻蚀机市场深度全景调研及投资前景分析报告》。
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2021-2026年中国刻蚀机市场深度全景调研及投资前景分析报告
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