溅射靶材在我国还属于较新的行业,但溅射镀膜和终端应用已经发展得较为成熟,高纯度金属以及溅射靶材等关键原材料主要依靠进口供给。
靶材是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料,是制备功能薄膜的原材料,又称“溅射靶材”,纯度为99.95%以上,更换不同靶材可得到不同的膜系,实现导电或阻挡等功能。靶材种类繁多,按材质可划分为金属靶材、陶瓷靶材和合金靶材三类。
溅射靶材在我国还属于较新的行业,但溅射镀膜和终端应用已经发展得较为成熟,高纯度金属以及溅射靶材等关键原材料主要依靠进口供给。因此,亟需将产业链向上游扩展,加大研发投入,大力发展高纯金属提纯和溅射靶材制造业务,形成相对完整的产业链条。
据中研产业研究院报告《2021-2025年中国靶材行业发展趋势及投资预测报告》分析
溅射靶材行业具有极高的客户认证壁垒与技术壁垒,海外公司起步早,美日公司长期垄断全球市场,日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯合计占据全球80%的份额。在海外靶材关税壁垒和半导体材料自主可控的背景下,靶材国产替代大幕拉开。国内公司有研新材、江丰电子依靠自身优势抓住机遇,逐渐成长为国内靶材的龙头。
目前全球靶材制造业,尤其是高纯度靶材市场,主要份额集中在海外巨头手中。美日龙头企业在掌握核心生产技术后,实施严格保密措施来限制技术外泄,并通过扩张整合把握全球溅射靶材市场的主动权,先发优势明显。从靶材种类角度看,日矿金属是铜靶的主要供应商;攀时与世泰科为钼靶的主要供应商,住友化学,爱发科为铝靶的主要供应商;三井、日矿金属和优美科则是ITO靶材主要供应商。
目前,全球溅射靶材市场主要有四家企业,分别是JX日矿金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯,市场份额占比分别为30%、20%、20%和10%,合计垄断了全球80%的市场份额。
近年来,随着国内少数企业加大技术研发投入,经过数年的科技攻关和产业化应用,已逐渐突破关键技术门槛,拥有了部分产品的规模化生产能力,这些企业正在经历快速发展时期,上升势头较快。
靶材的发展,将形成技术与服务决定企业成败的局面。技术力量雄厚、研发产品品种多并具有几种特有产品的靶材公司会在市场竞争中取得话语权。规模的扩大使销售过程对资金的要求提高,资金占用量加大,周转时间变长,这些都对靶材企业运营管理提出更高挑战。镀膜行业的扩大及发展,将会使得该行业竞争愈演愈烈,对靶材供应商的产品服务要求更高。
在行业兼并重组加剧,以及2018年底进口靶材的免税期于结束的背景下,预计国内企业靶材产品供应水平能力以及国产化率不断提升持续成为行业发展趋势,同时国内外技术差距将逐步缩小,具体将体现为高纯金属提纯技术以及靶材制造技术的提升。半导体领域对靶材晶粒晶向控制的要求提高以及由薄膜太阳电池转化效率提高带来的对该类电池需求的增长将成为行业驱动点,同时,随着显示面板、半导体产业逐步向国内转移,国内高端靶材需求有望持续增长。
想要了解更多靶材行业的发展前景,请查阅《2021-2025年中国靶材行业发展趋势及投资预测报告》。

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2021-2025年中国靶材行业发展趋势及投资预测报告
靶材是制备功能薄膜的原材料,以99.95%以上高纯金属为原料制备,用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域,实现导电或阻挡等功能。其中,半导体领域对纯度和技艺要求最高,5N5以上。靶材种类...
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