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电子束曝光系统产能产值?呈增长态势 中国电子束曝光系统(EBL)发展前景分析

  • 2022年3月18日 WuYaNan来源:互联网 499 26
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近年来,中国电子束曝光系统的产量和产值都呈现出较快的增长态势。据统计,2021年,中国电子束曝光系统的产量约为864台,同比增长12.06%;产值约为6.82亿美元,同比增长18.40%。

中国电子束曝光系统(EBL)发展前景分析

电子束曝光是用低功率密度的电子束照射电致抗蚀剂,经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题,纳米压印术应运而生。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短,光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论,电子是一种波长极短的波。这样,电子束曝光的精度可以达到纳米量级,从而为制作纳米线提供了很有用的工具。

根据中研普华研究院报告《2022年全球与中国电子束曝光系统(EBL)市场深度研究分析报告》显示:

电子束曝光指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是光刻技术的延伸应用。电子束曝光系统即用于实现电子束曝光的系统。电子束曝光指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是光刻技术的延伸应用。

这种曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工艺容限大,而且生产效率高,但由于电子束在光刻胶膜内的散射,使得图案的曝光剂量会受到临近图案曝光剂量的影响(即临近效应),造成的结果是,显影后,线宽有所变化或图形畸变。虽然如此,限角度投影式电子束光刻仍是最具前景的非光学光刻。

随着器件的特征尺寸不断缩小,在掩模版制造中普遍采用电子束曝光和激光光刻设备,在这两类设备中,电子束设备在性能和数量上均占优势。最先进的激光制版系统,其束斑直径在0.2μm左右,可以用来制作0.18μm,0.15μm生产线的掩模版,但对特征尺寸更小的器件的掩模,只能用电子束曝光系统来制作,特别是用于光学光刻中的铭版制造。

图表:2018-2021年中国电子束曝光系统产量及产值情况

数据来源:中研普华产业研究院

第二节 美国市场电子束曝光系统(EBL)2018-2021年产量、产值及增长率

图表:2018-2021年美国电子束曝光系统产量和产值情况

数据来源:中研普华产业研究院

据统计,2021年美国电子束曝光系统的产量约为268台,较2020年增长了5.10%;产值约为2.29亿美元,较2020年增长了6.02%。

电子束曝光系统产能产值呈增长态势

据不完全统计,截至2021年底,全球电子束曝光系统产能约为3564台,产量约为3411台,产能利用率约为95.71%。

近年来,中国电子束曝光系统的产量和产值都呈现出较快的增长态势。据统计,2021年,中国电子束曝光系统的产量约为864台,同比增长12.06%;产值约为6.82亿美元,同比增长18.40%。

想了解电子束曝光系统(EBL)行业未来将如何发展?请关注中研普华研究院报告《2022年全球与中国电子束曝光系统(EBL)市场深度研究分析报告》。

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