中国大陆撑起光刻机巨头营收 光刻机行业市场现状及前景趋势分析

• 方蔓桃 2024年5月27日 来源：百度 225 6
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从光刻机的产业链来看，上游主要为光刻机生产所需的零件、组件和设备等，光刻机涉及的内部零件种类众多，且越高端的光刻机组成越复杂，如EUV内部零件多达8万件以上，其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等，其中光源、

今年一季度，ASML来自中国大陆的营收占比高达49%，而该公司以往的最大市场中国台湾和韩国占比则保持在低位，分别只有6%和19%。截至今年一季度，中国大陆已连续三个季度成为ASML最大市场，营收占比分别为46%、39%和49%，相比之下去年一季度只有8%，二季度为24%。

光刻机行业市场现状分析

国家开始重视光刻机的研发，如今中国在逐步缩小和国际光刻机巨头的差距。目前国内光刻机市场规模较小，但是随着国家政策的支持和技术水平的提高，中国光刻机市场具有很大的发展潜力。

从光刻机的产业链来看，上游主要为光刻机生产所需的零件、组件和设备等，光刻机涉及的内部零件种类众多，且越高端的光刻机组成越复杂，如EUV内部零件多达8万件以上，其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等，其中光源、晶圆曝光台、物镜和对准系统的技术门槛较为显著。因此，光刻机企业往往具备高外采率、与供应商共同研发的特点，而其下游应用主要包括芯片制造、功率器件制造、芯片封装等。

随着半导体市场规模不断扩大，半导体设备市场规模也将持续扩容。尽管2022年全球经济下滑明显，下游需求受到显著影响，半导体设备市场仍在增长，达到1076.4亿美元的规模。在半导体设备的蓬勃发展态势下，未来光刻机的发展空间也较为广阔。

全球光刻机市场的主要竞争公司为ASML、Nikon和Canon，其中ASML占据绝对霸主地位。2022年该三家厂商市场份额占比分别为82.14%、10.2%和7.65%，以ASML为首形成垄断格局。其中，超高端光刻机EUV领域中ASML独占鳌头，高端光刻机ArFi和ArFdry领域也主要由ASML占领，Canon主要集中在i-line光刻机领域，Nikon除EUV外均有涉及。

我们的报告《2024-2029年光刻机行业市场深度分析及发展规划咨询综合研究报告》分析

2020年起，疫情导致电子产品需求增加，新能源车渗透率提升等事件的影响，全球半导体市场步入景气周期。据ICInsights统计，2020-2022年全球半导体市场规模预计将从4926亿美元增长到6548亿美元。在此期间，晶圆厂积极扩产，光刻机交付周期不断延长。为保证设备交付，各晶圆厂纷纷提前下单订购设备，进一步推升了光刻机的销量。

。随着芯片制程不断升级，所需光刻机种类发生变化;逻辑制程从5纳米节点开始，必须使用EUV光刻机，光刻设备开支占比明显提升;DRAM芯片从1A节点开始逐步采用EUV光刻机;3DNAND芯片由于多层叠堆技术的发明，仍使用较老式的光刻机，光刻设备开支占比有所下降。整体上ArFi和EUV高端光刻机占比有所提升;单台EUV光刻机售价超过1亿美元，推高了平均售价。

光刻机行业市场前景趋势分析

《国家集成电路产业发展推进纲要》，提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备，开发光刻胶、大 尺英寸硅片等关键材料”;《国务院关于印发“十三五”国家科技创新规划的通知》提出“突破28纳米浸没式光刻机及核心部件”等政策规划为光刻机产业的发展提供了良好的政策发展环境。

2022年11月15日，国家知识产权局公布了华为的一项新专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)，这是在EUV光刻机核心技术上取得的突破性进展。另外，华中科技大学研制的OPC系统、哈尔滨工业大学研制的激光干涉系统等，也各自有所突破。同时，我国也在加快推进14纳米、7纳米甚至更低节点的光刻机研发工作。

在当前国际形势下，海外对华技术制裁日益加剧，光刻机作为被重点限制的设备之一，其国产化显得尤为迫切。国内光刻机产业的突破不仅关乎产业安全，更是国家科技自立自强的重要体现。

鉴于光刻机在半导体产业中的核心地位以及全球半导体市场的持续扩张趋势，光刻机市场的规模长期看好。同时，考虑到光刻机开发的高难度和产业的强垄断性，国产光刻机产业链具有巨大的投资潜力。在未来，随着国内光刻机技术的不断突破和市场份额的逐步扩大，投资者有望获得可观的回报。

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