掩膜版作为平板显示制造过程的关键材料,对面板产品的精度起决定性的作用,这也意味着对掩膜版的精度提出了更高的技术要求。近年来随着平板显示解析度不断提高,TFT半导体主动层材料已逐步采用LTPS/Oxide技术,并朝着LTPO(低温多晶氧化物〉等新技术演变。对于掩膜版的
掩膜版,又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
掩膜上承载着设计图形,光源投过掩膜并将图形投影在光刻胶智商。因此掩膜性能直接决定了光刻工艺的质量。目前制程制程用较为常用的工艺为投影式光刻,掩膜不直接与晶圆表面接触。
平板显示技术持续更新与发展,加之5G传输技术同步推进,超高清视频产业发展前景广阔。高分辨率终端显示产品的不断渗透与发展也必然会带动掩膜版朝着高精细化的方向发展。
掩膜版作为平板显示制造过程的关键材料,对面板产品的精度起决定性的作用,这也意味着对掩膜版的精度提出了更高的技术要求。
近年来随着平板显示解析度不断提高,TFT半导体主动层材料已逐步采用LTPS/Oxide技术,并朝着LTPO(低温多晶氧化物〉等新技术演变。对于掩膜版的配套技术要求,主要体现在曝光分辨率(最小线宽线缝)、最小孔或方块、CD均匀性以及套合精度的不断提升。
随着人们消费的不断升级,屏幕的大尺寸化已成为平板显示持续的演进方向。这主要是因为平板显示新的画质规格提升都集中在大尺寸和超大尺寸上,尤其是55英寸及以上的产品。
这些规格的改善包括8K分辨率、mini LED背光、量子点背光(QLED)、高色域、超窄边框、四面超窄边框、超纤薄、高动态范围(HDR)对比度等。由于这些新功能在32英寸、43英寸、50英寸这样的小尺寸上都无法实现,所以55英寸及以上的显示产品的需求持续升温。
根据中研普华产业研究院发布的《2021-2025年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告》显示:
掩膜版上游主要包括:1.图形设计、光掩膜设备及材料行业,主要供应厂商包括日本东曹,日本信越化学、日本尼康和菲利华等;2.中游为掩膜版制造行业,主要企业包括日本HOYA,日本 DNP,韩国 LG-IT、日本 SKE 和清溢光电;3.下游主要包括 IC 制造、IC 封装、平面显示和印制线路板等行业,广泛应用于消费电子、家电、汽车等电子产品领域,主要客户为半导体厂商英特尔、三星、台积电等以及显示屏厂商京东方、华星光电等。
平板行业掩膜版全球市场规模约为60亿人民币,我国占比约52%,我国年复合增速为20%。半导体行业掩膜版市场规模约300亿人民币,我国占比约0.6%,我国复合增速超过15%,国产替代空间巨大。
国内空白掩膜版未来45亿市场规模下有望诞生十亿级公司。国内空白掩膜版市场需求2019年约为5.1亿美元(35亿人民币),空白掩膜版的自给率为22.4%(1.14亿美元)。
随着国产替代加快,掩膜版行业整体规模的增加,到2030年国内空白掩膜版需求规模有望达到11.5亿美元规模,而空白掩膜版自给规模有望达到7.12亿美元(45亿人民币)。
电子信息产业是我国国民经济和社会发展的战略性、基础性、先导性产业,而掩膜版行业则是电子信息产业不可缺少的重要组成部分。
从产业链来看,掩膜版产业位于电子信息产业的上游,其主导产品掩膜版是下游电子元器件制造商(平板显示、半导体芯片、触控和电路板等行业)生产制造过程中的核心模具,起到桥梁和纽带的作用,电子元器件制造商的产品则广泛应用于消费电子、家电、汽车等电子产品领域。
因此,掩膜版行业的发展与其下游电子元器件行业乃至终端电子消费品行业的发展密切相关。下游行业市场规模的不断增长也为本行业提供了更为广阔的市场空间。
本报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国家经济信息中心、国务院发展研究中心、国家海关总署、全国商业信息中心、中国经济景气监测中心、中国行业研究网、国内外相关报刊杂志的基础信息、行业研究单位等公布和提供的大量资料以及对行业内企业调研访察所获得的大量第一手数据,对我国掩膜版市场的发展状况、供需状况、竞争格局、赢利水平、发展趋势等进行了分析。
报告重点分析了掩膜版前十大企业的研发、产销、战略、经营状况等。报告还对掩膜版市场风险进行了预测,为掩膜版生产厂家、流通企业以及零售商提供了新的投资机会和可借鉴的操作模式,对欲在掩膜版行业从事资本运作的经济实体等单位准确了解目前中国掩膜版行业发展动态,把握企业定位和发展方向有重要参考价值。
了解更多行业数据详情,可以点击查阅中研普华产业研究院的《2021-2025年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告》。
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2021-2025年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告
掩膜版,又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜上承载着设计图形,光源投...
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