光刻机市场发展现状调查及产业格局分析

• 吴亚楠 2023年9月22日 来源：互联网 1251 81
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光刻机上游国内代表企业包括福晶科技、奥普光电、南大光电、容大感光、华润微、精测电子、芯源微、菲利华、清溢光电、茂莱光学、美埃科技等。

在半导体行业，光刻技术的发展经历了多个阶段，接触/接近式光刻、光学投影光刻、分步(重复)投影光刻出现时间较早。目前，集成电路制造主要采用光学光刻技术，包括扫描式光刻、浸没式扫描光刻、极紫外光刻工艺。此外，还有X射线、电子束光刻、聚焦粒子束光刻、纳米压印、激光直写技术。

光刻这个概念，有广义和狭义之分。在狭义层面，就是用光去“复印”集成电路图案，这也是我们常说的光学光刻技术，特别是紫外线光刻技术(DUV和EUV)。在广义层面，光刻泛指各种集成电路“复印”和“印刷”技术，这些技术中，有的用光，有的不用光(如电子束和纳米压印光刻)。

按应用划分，半导体光刻技术主要用在三个领域：前道工序的集成电路制造，后道工序的芯片封装，以及显示面板的制造。其中，技术含量最高、受关注度最高的就是前道工序光刻工艺，我们常说的DUV和EUV，就是这一部分应用。

根据中研普华研究院撰写的《2023-2028年光刻机市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》显示：

光刻机市场发展现状调查

光刻机采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机按照有无掩模，可细分为有掩模光刻机和无掩模光刻机。无掩模光刻机分为电子束/激光/离子束直写光刻机，有掩模光刻机分为接近/接触/投影光刻机。

光学光刻，是通过照射，用投影方法将掩模上的大规模集成电路结构图形“画”在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图，光学光刻需要掩模。集成电路的最小特征尺寸与光刻系统的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的有效途径。因此，开发新型短波长光源光刻机一直是业界的研究热点。

电子束光刻，该技术不需要掩模，直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上。电子束光刻存在的一些问题阻碍了该技术的普及，例如：电子束高精度扫描成像曝光效率低;电子在抗蚀剂和基片中的散射和背散射现象造成的邻近效应;在实现纳米尺度的加工中，电子抗蚀剂和电子束曝光及显影、刻蚀等工艺技术问题。

光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产及下游光刻机应用三大环节，技术极为复杂，涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，部分机型所需的零部件更是多达数十万件，因此光刻机的生产通常涉及上千家供应商。

其中，光刻机上游国内代表企业包括福晶科技、奥普光电、南大光电、容大感光、华润微、精测电子、芯源微、菲利华、清溢光电、茂莱光学、美埃科技等。

就目前国内主要半导体设备国产化率情况而言，刻蚀设备、薄膜设备、清洗设备技术要求较低，国产突破较早，目前国产化率都在10%以上，但光刻机、涂胶显影、离子注入、探针台等仍是尚未完全量产的产品，目前技术水平仍停留在研发及提升技术方面，这些设备不仅价值量占比高，且对工艺品质影响较大，是实现国产替代的战术重心，其中光刻机更是重中之重。

光刻机产业格局

光刻机下游主要半导体产业，整体需求受半导体产业景气度影响较大，随着全球和中国半导体市场规模稳步扩张，光刻胶需求保持稳步增长。数据显示，2021年全球半导体市场规模达5559，同比2020年增长26.2%。中国集成电路销售额超万亿元，达10458.3亿元，同比2020年增长18.2%。随着半导体市场规模不断扩大，半导体设备市场规模也将持续扩容。尽管2022年全球经济下滑明显，下游需求受到显著影响，半导体设备市场仍在增长，达到1076.4亿美元的规模。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

在激烈的市场竞争中，企业及投资者能否做出适时有效的市场决策是制胜的关键。光刻机行业报告对中国光刻机行业的发展现状、竞争格局及市场供需形势进行了具体分析，并从行业的政策环境、经济环境、社会环境及技术环境等方面分析行业面临的机遇及挑战。还重点分析了重点企业的经营现状及发展格局，并对未来几年行业的发展趋向进行了专业的预判。

本报告同时揭示了光刻机市场潜在需求与潜在机会，为战略投资者选择恰当的投资时机和公司领导层做战略规划提供准确的市场情报信息及科学的决策依据，同时对政府部门也具有极大的参考价值。同时包含大量的数据、深入分析、专业方法和价值洞察，可以帮助您更好地了解行业的趋势、风险和机遇。

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