年产65吨光刻胶系列产品 2022光刻胶行业深度调研分析

• 2022年8月8日 HuangWenYu来源：证券时报 新浪财经 265 9
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光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

2022年8月，万润股份表示，公司“年产65吨光刻胶树脂系列产品项目”已完成了一次安全验收试生产工作，并通过安全验收，现正进行试生产前的准备工作。目前项目正按计划积极推进中。公司光刻胶材料产品主要包括光刻胶单体与光刻胶树脂，主要应用在半导体制造领域，相关产品已经实现供应。

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 。

根据中研普华产业研究院发布的《2022-2027年光刻胶产业深度调研及未来发展现状趋势预测报告》显示：

光刻胶发展至今已有百年历史，现已广泛用于集成电路、显示、PCB等领域。作为光刻工艺的核心材料，光刻胶帮助将掩膜版上的图形转移到衬底表面，其分辨率直接决定了特征尺寸的大小，其质量和性能直接影响制造产线的良率，高壁垒和高价值量是典型特征。

我国光刻胶产业现状

光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。全球光刻胶市场主要由美日企业主导，CR4约70%。近年来，随着光刻胶的需求攀升，叠加日本龙头减产，光刻胶出现供不应求的局面，目前大陆企业在g/i线光刻胶已形成一定规模的销售，中高端光刻胶方面，彤程新材的KrF光刻胶产品已批量供应国内主要12英寸、8英寸晶圆厂，晶瑞电材KrF　光刻胶加紧建设中，另有多家企业ArF光刻胶研发顺利进行。

据数据显示，我国光刻胶大陆市场增速高于全球，2022年规模有望超过百亿人民币，占全球光刻胶市场比例也将持续提升，到2026年占比有望从2019年15%左右提升到19.3%。

苏州瑞红为国内半导体光刻胶出货量最大企业之一，被视作行业的先行者和领军者。经过三十多年研发和积累，在光刻胶领域，公司的销售规模和盈利能力处于国内市场前列。2021年子公司苏州瑞红实现营收3.15亿元，实现净利润5445万元。今年一季度实现营收5839万元，实现净利润1353万元。

广信材料根据自身研发计划、资金等能力，根据国内市场发展情况和开发情况，将先以发展平板显示光刻胶为主、同步推进集成电路光刻胶及配套材料为战略目标进行部署。广信材料2022年8月2日，两天大涨37.93%。2022年第一季度，广信材料营业收入6.19亿元,同比下降17.82%净利润亏损4.11亿元,同比下降91.64%。

2022年8月，南大光电表示，公司光刻胶项目所需的光刻车间已建成，项目所需的主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机、CD-SEM(特征尺寸测量用扫描电子显微镜)、涂胶显影一体机等已经完成安装并投入使用。已经生产出多款样品发往下游客户验证，已具备了ArF光刻胶及配套材料产业化的基本条件。

目前光刻胶业市场空间大但自给率低，为提升国家关键材料领域“自主可控”水平，实现半导体材料的“国产替代”，推动业绩保持高速增长，未来或可实现公司“经营”+“业绩”+“资本”多重驱动。

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