2023年光刻机行业市场发展现状调查

• 陈观秋 2023年7月26日 来源：证券日报 中国科技信息 841 51
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全球光刻机市场几乎被荷兰的阿斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独占高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。随着这些国家对中国半导体制造设备实施出口限制，中国获取高端光刻机的难度将进一步加大。

继美国与荷兰之后，7月23日，日本限制半导体制造设备出口的新规也正式生效，这给我国半导体产业最尖端的芯片制造领域带来巨大压力。

全球光刻机市场几乎被荷兰的阿斯麦(ASML)、日本的佳能和尼康垄断，其中ASML更是独占高端极紫外光刻机(EUV)的市场份额。随着这些国家对中国半导体制造设备实施出口限制，中国获取高端光刻机的难度将进一步加大。

光刻机行业概述

光刻机是一种利用光学原理将电路图案转移到硅片上的设备，相当于芯片制造的“打印机”，决定着芯片的工艺水平和性能，是芯片制造中的关键核心设备，也是半导体产业核心中的核心。

光刻机按照有无掩模，可细分为有掩模光刻机和无掩模光刻机。无掩模光刻机分为电子束/激光/离子束直写光刻机，有掩模光刻机分为接近/接触/投影光刻机。

光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。而光刻技术则是制造集成电路的关键技术，是通过紫外光、准分子激光、电子束等广义光源和与其敏感的光刻胶之间的相互作用在基板上形成微纳结构图形的技术。

我们的报告《2023-2028年光刻机市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》包含大量的数据、深入分析、专业方法和价值洞察，可以帮助您更好地了解行业的趋势、风险和机遇。在未来的竞争中拥有正确的洞察力，就有可能在适当的时间和地点获得领先优势。

从产业链来看，光刻机上游产业链主要包括测量台与曝光台(双工件台)、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等11个模块的组件。上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。光刻机行业的下游主要是圆晶代工企业，下游主要决定了光刻机市场的需求。

光刻机市场发展现状调查

光刻机作为半导体产业链中技术要求最高的设备，市场高度集中背景，市场主流产品基本来自前三大企业，数据显示，随着半导体和信息通讯等产业稳步扩张，全球光刻机销量呈现稳步增长态势，2021年top3企业销量达478台，同比2020年增长65台。整体来看，集成电路、面板和LED光刻机整体出货约650台，其中集成电路约500台左右。

就细分产品类型而言，EUV作为唯一能够制备7nm及以下工艺的光刻机，采用EUV光源，使用的光波波长只有13.5nm， NA (数值孔径)为0.33， 目前全球只有ASML能生产EUV光刻机。 随着高端芯片持续上升，EUV销量稳步扩张，是光刻机市场规模增长的主要动力。

据中研产业研究院《2023-2028年光刻机市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》分析：

目前最先进的EUV光刻机，有超过45万个零件，零件数量是一辆F1赛车的20倍以上，制造难度超乎想象。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML，大约也只生产了其中的15%，另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此，推进我国光刻机关键技术研发，提升半导体设备国产化率，是当下乃至未来相当长一段时间内，既重要紧迫，同时又有很高难度的攻坚任务。

我国可量产90纳米以上的光刻机，与国际先进水平虽有差距，但也能满足国内市场部分需要。这表明，我国在光刻机领域具有一定的技术积累和人才储备，有望逐步缩小与国际先进水平的差距。

光刻机产业链上有所突破的中国企业

华卓精科在光刻机双工件台技术上的突破，也为中国自主研发65nm至28nm 双工件干台式及浸没式光刻机奠定了基础，成为生产国产光刻机的上海微电子的唯一工件台提供商。建立初衷在于将清华大学在"极大规模集成电路制造装备及成套工艺"国家科技重大专项中积累的尖端技术落地产业化。

在光源方面，科益虹源公司自主研发设计生产的首台高能准分子激光器，以高质量和低成本的优势，填补中国在准分子激光技术领域的空白，打破国外厂家对该技术产品长期市场垄断局面，其已完成了6khz、60w主流ArF光刻机光源制造，也是上海微电子即将交付的28nm光刻机的光源制造商。

在光学镜头方面，奥普光学提供的镜头可以做到90nm，但是与卡尔蔡司、Nikon等公司还有非常大的差距。

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