光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
一、光刻胶的概念及分类
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。
光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂,品种规格较多,在电子工业集成电路的制造中,对所使用光刻胶有严格的要求。
电子束辐射刻蚀,就是以高速、高能(通常为10-20 keV)的粒子流与抗蚀剂分子碰撞,利用非弹性碰撞所丧失的能量被分子吸收后,诱发化学反应,抗蚀剂分子、原子吸收这部分能量后,放出二次电子、三次电子,由于激励抗蚀分子等原因而失去能量,渐渐地成为低能电子。组成光刻胶的原子为C、H、O等,这些原子的电离势大约为几十至几百eV。因此,当这些电子(包括二次、三次电子)的能量低至几十电子伏特时,将强烈地诱导化学反应。
此外,在电子束电子失去能量的过程中,还会产生多种离子和原子团(化学自由基),它们都有强烈的反应性能,也会引起多种化学反应。引起抗蚀剂分子交联(负性光刻胶)或断裂降解(正性光刻胶),利用曝光后曝光区与非曝光区在溶剂中溶解性以及溶解速率的差异,经显影后得到图像。电子束光刻要求抗蚀剂具有高的灵敏度、对比度以及抗干法蚀刻选择性,由于电子束光刻不存在紫外吸收问题,因而对材料的选择比较广泛。
在全球光刻胶市场中,LCD光刻胶占比27.3%,PCB光刻胶占比23%,半导体光刻胶占比21.9%,各类型光刻胶占比较为平均,全球光刻胶产品占比较为均衡。
在平板显示器制造中,平板显示器电路的制作、等离子显示器障壁的制作、液晶显示器彩色滤光片的制作均需采用光刻技术,使用不同类型的光刻胶。按用途可分为TFT用光刻胶、触摸屏用光刻胶和滤光片用光刻胶。数据显示,我国光刻胶市场规模由2017年58.7亿元增至2020年84亿元,年均复合增长率为12.7%。数据显示,2020年我国光刻胶产量达13万吨,同比增长18.2%。2021年,国内光刻胶产业生产总量为15万吨,同比增长15.38%;产业市场规模为93.3亿元,同比增长11.07%。
随着国内外晶圆厂产能扩张项目逐步落地,全球半导体光刻胶市场需求呈现稳步向上态势,在市场需求增长及国家系列政策推动作用下,我国光刻胶的市场需求加速释放,2017-2022年,国内光刻胶年生产总量复合增长15.51%,产业市场规模复合增长9.03%。
目前,我国光刻胶产业市场主要产品型号种类包括有PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶等,产业市场消费占比比例分别为94%、3%、2%,行业主要需求市场仍由印制电路板(PCB)产业占据。随着科技水平的不断提升,物联网、汽车电子、工业4.0、云端服务器、存储设备等将成为驱动PCB需求增长的新方向,叠加PCB向高密度化、薄型高多层化等高技术含量化发展运行,将带动国内外PCB光刻胶用量持续增长。
国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺”专项(02专项)项目“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”,经过项目组全体成员的努力攻关,完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发,达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。2019年11月25日,8种“光刻胶及其关键原材料和配套试剂”入选工信部《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019年版)》。
为贯彻落实《国务院关于印发新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策的通知》(国发〔2020〕8号),经国务院同意,现将有关进口税收政策通知如下:对下列情形,免征进口关税:(一)集成电路产业的关键原材料、零配件(即靶材、光刻胶、掩模版、封装载板、抛光垫、抛光液、8英寸及以上硅单晶、8英寸及以上硅片)生产企业,进口国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品。(二)集成电路用光刻胶、掩模版、8英寸及以上硅片生产企业,进口国内不能生产或性能不能满足需求的净化室专用建筑材料、配套系统和生产设备(包括进口设备和国产设备)零配件。
四、光刻胶行业进出口市场分析
2022年,我国光刻胶产业进出口产品贸易实现平均价格分别为43953.13美元/吨、9152.48美元/吨,进出口产品贸易均价差达34800.64美元/吨。值得注意的是,我国光刻胶进口产品实现平均价格持续保持在43000美元/吨上下,与国内出口光刻胶产品实现均价差持续保持在35000美元/吨上下。
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