光刻胶行业发展前景投资分析 光刻胶行业景气回暖

• 吴亚楠 2023年9月19日 来源：互联网 346 15
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随着制程的进步，存储芯片及逻辑芯片的层数均不断增加，随之而来的是每片芯片需要的光刻次数不断增加，进而导致了对光刻胶的需求飞速增加。

随着集成度的提高，光刻胶的分辨率的要求越来越高，所用的光源波长越来越短。因为光刻胶成像时可分辨线宽与曝光波长成正比，与曝光机透镜开口数成反比，所以缩短曝光波长是提高分辨率的主要途径。光刻工艺经历了从g线、i线光刻的近紫外(NUV)，进入到深紫外(DUV)248 nm光刻，以及193 nm光刻的发展历程。

在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。

光刻胶行业景气回暖

当前国内高端芯片实现率先突破，光刻作为半导体加工中最重要的工艺之一，国产设备和材料渗透率较低，目前国内正加大对光刻胶行业的攻关力度。

待国产光刻胶设备逐渐成熟，未来国内光刻胶市场规模增速有望快于全球，行业盈利急速提升。而且随着芯片行业摆脱困境进入景气周期，光刻胶需求有望触底反弹。根据相关机构预测全球光刻胶市场将在2024年实现景气回暖，国产厂商或将充分受益。由此可见光刻胶行业在景气周期与自主可控共振中迎来了发展新阶段。

根据中研普华研究院撰写的《2023-2028年中国光刻胶行业深度分析与发展前景预测报告》显示：

光刻胶行业发展前景投资分析

随着集成度的提高，光刻胶的分辨率的要求越来越高，所用的光源波长越来越短。因为光刻胶成像时可分辨线宽与曝光波长成正比，与曝光机透镜开口数成反比，所以缩短曝光波长是提高分辨率的主要途径。光刻工艺经历了从g线、i线光刻的近紫外(NUV)，进入到深紫外(DUV)248 nm光刻，以及193 nm光刻的发展历程。值得指出的是：现代曝光技术不仅要求高的分辨率，而且要有工艺宽容度和经济性，显然光源的波长越短，光刻胶的分辨率越高，感光树脂合成的难度也越大。

在平板显示器制造中，平板显示器电路的制作、等离子显示器障壁的制作、液晶显示器彩色滤光片的制作均需采用光刻技术，使用不同类型的光刻胶。按用途可分为TFT用光刻胶、触摸屏用光刻胶和滤光片用光刻胶。

电子信息产业更新换代速度加快，叠加半导体、显示面板产业东移，国内光刻胶需求快速提升，我国光刻胶市场规模从2015年的100亿元增至2020年的176亿元，年均复合增速达12%。

从全球来看，刻胶市场规模从2010年的56亿美元增至2020年的87亿美元，年均复合增速达5%。预计2022-2025年将达98、103、109和114亿美元，稳步提升。

与此同时，随着制程的进步，存储芯片及逻辑芯片的层数均不断增加，随之而来的是每片芯片需要的光刻次数不断增加，进而导致了对光刻胶的需求飞速增加。

10亿元光刻胶项目落地四川。在近日，在成都举行的2023世界显示产业大会上，某科技公司签订项目合作协议，拟在自贡沿滩区投资的年产10万吨高端光刻胶及超净半导体功能化学品产业化项目。据悉，该项目拟投资10亿元，占地约140亩，分别建设光刻胶、电子级双氧水、电子级硝酸、电子级氢氟酸、刻蚀液、显影液、剥离液、清洗液、高纯电子级硫酸以及溶剂回收等生产线。

项目建成达产后，预计年销售收入17.2亿元、年税收3亿元，提供就业岗位超100个。该项目的引入将有助于四川省晶硅光伏、新型显示、半导体制造等产业的高质量发展，项目建成投产后能够有效提升成渝地区在国内光刻胶行业版图中的地位，同时吸引相关配套企业向本地集聚，带动传统基础化工、电子信息等产业上下游产业链高质量发展，对发展西南地区的半导体，平板显示以及太阳能新能源产业具有重大战略意义。

光刻胶产量呈现稳中有升态势

光刻胶属于技术和资本密集型行业，全球供应市场高度集中，日本JSR等五家龙头企业占据全球光刻胶市场87%的份额，同时海外龙头也已实现EUV等高端制程量产。目前，我国光刻胶生产主要集中在PCB光刻胶等中低端产品，其中PCB光刻胶占比达94%，而半导体用g/i线胶自给率约10%，KrF胶自给率不足5%，ArF胶基本依靠进口。

在政策推动及半导体产业链配套需求提升背景下，国内优秀龙头公司正积极突破，彤程新材EUV胶已通过02专项验收;上海新阳、徐州博康ArF胶正处客户测试阶段，南大光电ArF胶已获部分客户认证;晶瑞电材等i/g线胶已实现量产。

受益于国家红利政策的扶持，中国本土光刻胶制造商积极提升光刻胶产品技术水平和研发能力，推进光刻胶国产化的进程。 近期有机构报告指出，预计全球光刻胶市场将在2024年实现反弹，增长7%，总额达到25.7亿美元。

未来，中国有望突破高端光刻胶产品的技术壁垒，带动中国光刻胶产量进一步提升。在国家一系列红利政策带动下，国内半导体、平板显示及PCB行业发展势头良好，我国光刻胶产量呈现稳中有升态势。

在激烈的市场竞争中，企业及投资者能否做出适时有效的市场决策是制胜的关键。光刻胶行业报告对中国光刻胶行业的发展现状、竞争格局及市场供需形势进行了具体分析，并从行业的政策环境、经济环境、社会环境及技术环境等方面分析行业面临的机遇及挑战。还重点分析了重点企业的经营现状及发展格局，并对未来几年行业的发展趋向进行了专业的预判。

本报告同时揭示了光刻胶市场潜在需求与潜在机会，为战略投资者选择恰当的投资时机和公司领导层做战略规划提供准确的市场情报信息及科学的决策依据，同时对政府部门也具有极大的参考价值。同时包含大量的数据、深入分析、专业方法和价值洞察，可以帮助您更好地了解行业的趋势、风险和机遇。

想了解关于更多光刻胶行业专业分析，可点击查看中研普华研究院撰写的《2023-2028年中国光刻胶行业深度分析与发展前景预测报告》。

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